Որպես անօրգանական փոշի, սիլիկոնային միկրո փոշին լայնորեն օգտագործվում է պոլիմերային նյութերում: Մակերեւույթի փոփոխությունից հետո բնական քվարցը վերցնում է սիլիկոնային միկրո փոշիքվարցGrinding Mill, որն ունի գերազանց բնութագրեր, ինչպիսիք են բարձրամեկուսացումը, բարձր ջերմային կայունությունը, ջերմային ընդլայնման ցածր մակարդակի գործակիցը, թթու եւ ալկալային դիմադրությունը, հագնում դիմադրությունը եւ այլն: Այն կարող է լայնորեն կիրառվել էլեկտրոնային, էլեկտրական, ապակե մանրաթել, ռետինե եւ պլաստիկ, ներկ, ամենօրյա քիմիական նյութեր եւ այլ արդյունաբերություններ:

Ինչու պետք է օգտագործվի մակերեսի փոփոխության բուժումը `բնական քվարցից սիլիկոնային փոշի արտադրելու համար

Սիլիկոնային միկրոէքավուն ինքնին բեւեռային եւ հիդրոֆիլային նյութ է, որը տարբերվում է պոլիմերային մատրիցայի ինտերֆեյսի հատկություններից, ունի վատ համատեղելիություն եւ դժվար է ցրվել բազային նյութում: Հետեւաբար, սովորաբար անհրաժեշտ է փոփոխել սիլիկոնային միկրոավտէ փոշու մակերեսը եւ նպատակային փոխել սիլիկոնային միկրոավտէ փոշու մակերեսի ֆիզիկական եւ քիմիական հատկությունները `ըստ դիմումի կարիքների, որպեսզի բարելավվի իր համատեղելիությունը օրգանական պոլիմերային նյութերի հետ եւ բավարարի դրա համատեղելիությունը պոլիմերային նյութերում ցրման եւ իրացվելիության կարիքները:

Բնական քվարցի դիմումի դաշտը քվարցով սիլիկոնային փոշի ստանալուց հետոGrinding Mill

Սիլիկոնային միկրո փոշի կարող է օգտագործվել բազմաթիվ ոլորտներում, ինչպիսիք են պղնձի ծածկը լամինատ, ռետինե, պլաստիկ, ծածկույթ, էպոքսիդի պլաստիկ հերմետիկ նյութեր, էլեկտրական մեկուսիչ նյութեր, սոսինձներ, շինանյութեր եւ այլն: Կարող է օգտագործվել CCL, բյուրեղային սիլիկոնային միկրո փոշի Ստորին արտադրության ցածր պահանջներով ցածր գնով եւ կարող են որոշակիորեն բարելավել ջերմային կայունությունը, խստությունը, ջերմային ընդլայնման գործակիցը եւ CCL- ի այլ հատկությունները: Սիլիկոնային միկրո փոշին ունի փոքր մասնիկների չափի, մեծ մակերեսային մեծ տարածքի, ջերմության լավ դիմադրության եւ դիմադրության դիմադրության առավելություններ: Այն կարող է բարելավել մաշվածության դիմադրությունը, առաձգական ուժը եւ մոդուլը, ռետինե կոմպոզիցիաների բարձր արցունքաբեր դիմադրությունը եւ այլ հատկությունները: Silica Micro փոշին կարող է օգտագործվել որպես լցոնիչ ծածկույթների արդյունաբերության մեջ, որը կարող է նվազեցնել միայն ծածկույթի պատրաստման արժեքը, բայց նաեւ բարելավել ծածկույթի կատարումը, ինչպիսիք են բարձր ջերմաստիճանի դիմադրությունը, եղանակային դիմադրությունը, եղանակային դիմադրությունը, Եվ այլն

Բնական քվարցի գործընթացում օգտագործելով քվարցGrinding MillՍիլիկոնային փոշի արտադրել

Silicon երկօքսիդը (Sio2) ունի երկու ձեւ, բյուրեղային եւ ամորֆ ամորֆ, այնպես որ Sio2 միկրո փոշին ներառում է բյուրեղային եւ ամորֆ փոշի: Sio2 Crystal- ում յուրաքանչյուր սիլիկոնային ատոմը շրջապատված է չորս հարակից թթվածնի ատոմներով եւ գտնվում է չորս O ատոմների կենտրոնում: Այն համատեղում է այս չորս թթվածնի ատոմների հետ կովալենտային պարտատոմսերով `սիլիկոնային թթվածնի Tetrahedron- ի հետ եռաչափ ցանցային կառույց ձեւավորելու համար, որպես հիմնական կառույց: Sio2- ի բյուրեղային կառուցվածքը ցուցադրվում է այդ ցուցանիշում: Silica Micro փոշին կարելի է պատրաստել բնական քվարցից կամ միաձուլված քվարցից ջախջախիչ, մանրացնել, ֆլոտացիա, թթու, մաքրման, բարձր մաքրության ջրի մաքրման եւ այլ գործընթացների միջոցով:

Որպեսզի սիլիկոնային փոշի լինի բնական քվարցից, կայուն, արդյունավետ, էներգախնայողություն եւ շրջակա միջավայրի համար հարմար պրոֆեսիոնալքվարցի grinding illպահանջվում է:HLMX Quartz գերտերություն ուղղահայացակոսջրաղաց hcmilling (Guilin Hongcheng), որպես պրոֆեսիոնալքվարց գերհամարջրաղաց, կարող է արդյունավետորեն մանրացնել բնական քվարցը `սիլիկոնային փոշի արտադրելու համար: Գործընթացի պարզ հոսքով եւ քիչ համակարգային սարքավորումներով, այն հազվագյուտ սարքավորում է `բարձր ծախսերի կատարմամբ: Կոմպակտ կառուցվածքի դասավորությունը, փոքր հատակի տարածքը, գնդակի ջրաղացը, կարող է կազմակերպվել բացօթյա, ցածր շինարարության արժեքի եւ հաճախորդների համար ավելի շատ շահույթ ստանալու տարածք ստեղծել:

Եթե ​​տեղին ունեքքվարցGrinding Mill requirements, please contact mkt@hcmilling.com or call at +86-773-3568321, HCM will tailor for you the most suitable grinding mill program based on your needs, more details please check www.hcmilling.com.