Silīcija dioksīda pulveris ir izgatavots no dabiskā kvarca (SiO2) vai sakausēta kvarca (amorfs SiO2 pēc tam, kad dabiskais kvarcs ir izkusis un atdzesēts augstā temperatūrā), sasmalcinot, slīpēšanu, flotāciju, skābes mazgāšanas attīrīšanu, augstas tīrības pakāpi ūdens apstrādi un citus procesus. Tātad, kāds ir silīcija pulvera veiktspējas un ražošanas process? Tālāk aprakstīts silīcija pulvera veiktspēja un ražošanas procesasilīcijspulvera slīpēšanas dzirnavas.

Papildus zemai termiskās izplešanās koeficientam, lieliskai dielektriskai īpašībai, augstajai siltumvadītspējai, labai balstiekārtas veiktspējai un citām izcilām īpašībām, silīcija dioksīda pulvera īpašības ietver arī šādas:

(1) Laba izolācija: silīcija pulvera augstās tīrības, zema piemaisījuma satura, stabilas veiktspējas un lieliskas elektriskās izolācijas tīrības dēļ sacietētajam produktam ir laba izolācija un loka izturība.

(2) Tas var samazināt epoksīda sveķu sacietēšanas reakcijas eksotermisko maksimālo temperatūru, samazināt sacietētā produkta lineāro izplešanās koeficientu un saraušanās ātrumu, tādējādi novēršot sacietētā produkta iekšējo spriegumu un novēršot plaisāšanu.

(3) Korozijas izturība: silīcija dioksīda pulveri nav viegli reaģēt ar citām vielām, un tam nav ķīmiskas reakcijas ar lielāko daļu skābju un sārmu. Tās daļiņas ir vienmērīgi pārklātas uz objekta virsmas ar spēcīgu izturību pret koroziju.

(4) daļiņu šķirošana ir saprātīga, kas var samazināt un novērst sedimentāciju un slāņošanu, ja to lieto; Tas var uzlabot sacietētā produkta stiepes un spiedes stiprību, uzlabot nodiluma izturību, palielināt sacietētā produkta siltumvadītspēju un palielināt liesmas slāpēšanu.

(5) Silāna savienošanas līdzekļa apstrādātajam silīcija dioksīda pulverim ir laba mitrināšana ar dažādiem sveķiem, laba adsorbcijas veiktspēja, viegla sajaukšana un bez aglomerācijas.

(6) Silīcija dioksīda pulvera kā pildvielas pievienošana organiskajos sveķos ne tikai uzlabo sacietētās produkta īpašības, bet arī samazina produkta izmaksas.

Silīcija dioksīda pulvera ražošanas process ietver sausu slīpēšanu un mitru slīpēšanu.

Sausa slīpēšanas silīcija pulvera ražošanas process: ielieciet silīcija pulvera izejvielusilīcijsrūdaslīpēšanadzirnavasmašīnapar slīpēšanu. Slīpēšanas process var nepārtraukti barot un izlādēt vai vienlaikus ievadīt vairākas svara izejvielas un pēc tam vairākas reizes pēc nepārtrauktas slīpēšanas; Izgatavojot, daļiņu izmēru kontrolē ar smalko pulvera klasifikatoru. Rupjus produktus atdod dzirnavās, lai atkārtotu vai kā produktus, un smalkajiem produktiem jābūt produktiem. Sausai slīpēšanai stingri kontrolē slīpēšanas materiāla mitruma saturu, un produkts nebūs sauss.

Mitrās slīpēšanas silīcija dioksīda pulvera ražošanas process: vienā reizē ielieciet vairākas svara silīcija dioksīda pulvera izejvielas, pievienojiet atbilstošu ūdens daudzumu, un darbības koncentrācija ir 65%~ 80%; Pēc nepārtrauktas slīpēšanas vairāk nekā desmit stundas izlejiet vircu, izmantojiet spiediena filtrēšanas metodi vai ielieciet to materiāla mucā, lai dabiski nogulsnētu un dehidrētu un iegūtu ūdeni nesošu materiāla kūku; Pēc tam, kad tas ir salauzts un izkliedēts ar drupinātāju, tas vienmērīgi un nepārtraukti ievietots dobā vārpstas maisīšanas žāvētājā, un produkts tiek iegūts pēc žāvēšanas.

Sausa slīpēšanas silīcija pulvera ražošanas procesā var izvēlēties profesionālu silīcija pulvera dzirnaviņu.HLMXsilīcija pulveris īpaši smalks vertikālislīpēšanadzirnavasHcmilling (Guilin Hongcheng) ražotais var būt lieliska loma sausa slīpēšanas silīcija pulvera ražošanas procesā. Tā kā tā ir augsta ražošanas efektivitāte, augstā klasifikācijas precizitāte un augstas kvalitātes slīpēšanas produktu kvalitāte, tā ir ieguvusi klientu uzslavu un ir ļoti piemērota kā asilīcija pulvera ražošanalīnijaaprīkojums.

Kā pieredzējis kalnrūpniecības mašīnu un aprīkojuma ražotājs, HCMilling (Guilin Hongcheng) specializējas dažāda veida ražošanāsilīcija pulvera slīpēšanadzirnavasaprīkojums. Ja vēlaties uzzināt vairāk par silīcija pulvera ražošanas procesu, lūdzu, skatiet HCM, lai iegūtu papildinformāciju.